석영튜브

ALD/LPCVD/Diffusion Process에 사용되는 석영 튜브
ALD/LPCVD/Diffusion Process 등 반도체 박막증착 과정 중 미세화 공정에 반드시 필요한 석영튜브를 사용하여 웨이퍼 보호 및 고품질의 박막을 제조 하는데 중요한 역할을 합니다.

석영보트

ALD/LPCVD/Diffusion Process에 사용되는 석영 보트
ALD/LPCVD/Diffusion 공정 중 석영보트에 웨이퍼를 적재하고, 웨이퍼 표면 에 박막 증착을 안정화 시키기 위하여 초미세화, 고집적화를 돕는 반도체 제조공정에 중요한 역할로 사용되고 있습니다.

Pedestal

ALD/LPCVD/Diffusion Process에 사용되는 석영 Fin Pedestal
석영보트의 받침대 역할로써 공정에서 열 및 광을 차단하여 일정 온도를 유지해 주어, 웨이퍼 표면에 박막 증착을 균일하게 할 수 있게 돕는 중요 한 역할로 사용되고 있습니다.

석영에칭

석영에칭 부문(Etcher Part)
반도체의 직접도를 높이기 위한 미세선폭을 만드는 필수 공정인 식각공정 에서 파티클 발생 최소화로 안정된 공정을 유지시켜줌으로써 석영에칭 파트류가 반도체 생산성 향상에 기여를 합니다.
-.표면 조도, 미세 크랙 표면 오염등을 출하 검사에서 철저히 관리하여 파 티클 발생을 최소화 합니다.
-.치수 공차는 GD&T를 적용하여 부품간의 조합을 최적화 합니다.

Solar & LED

Solar & LED용 대구경 Tube 및 MOCVD용 Part
Grower 용 Feeding Tube, Cone 및 MOCVD용 Parts를 생산합니다.
-.최대 OD350*2,000L Size Tube생산이 가능합니다.
-.Solar용 Slotting M/C 보유로 미세 Boat Slot가공이 가능합니다.
-.국내 모든 LED 장비용 Parts 전품목의 양산이 가능합니다.

Corona chamber(R3)

플라즈마 생성용 가스도관의 제조방법 및 이에 따라 제조된 가스도관의 개선 링 형태의 원자재와 링형 가스 유도의 일부를 형성하는 'C'자 단면을 포함하여 제1바디부분과 제2바디부분을 가공하여 접합합니다.
특허출원 제품(제10-2015-0084300호)

Dry Etch Part Ring